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精密硬质氧化是一种高精度的硬质阳极氧化处理工艺，主要用于对表面性能和尺寸精度要求极高的零部件。
工艺特点
膜层质量高：能在铝及铝合金表面生成一层厚度均匀、结构致密的氧化膜，膜厚范围通常在 30-200μm 间可精确控制，硬度可达 HV350 以上，显微硬度可达 HV400-600，远超淬火钢和硬质铬镀层。
精度控制严：对于精密零部件，如半导体晶圆传输机械臂，可将表面粗糙度控制在 Ra0.1μm 以下，同时能精准控制膜层厚度，确保零件的尺寸精度，例如上海微电子光刻机载物台氧化膜厚度可控制在 80±3μm。
工艺条件苛刻：需在特定的低温环境下进行，一般温度控制在 - 5℃至 10℃，常采用硫酸系电解液，浓度在 10%-20%，电压范围较高，为 40-100V，电流密度维持在 1.5-3.5A/dm²，且需配合强力冷却系统和精密的电源控制设备。
后处理精细：为满足精密部件的性能要求，后处理环节通常包括纳米级封孔处理，以显著提升氧化膜对酸碱等化学腐蚀介质的抵御能力，还可能会进行含浸 PTFE 微粒等处理，形成自润滑表面，适用于高精度传动部件。