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二次硬质氧化

二次硬质氧化

 详情说明
二次硬质氧化是针对铝合金 / 压铸铝的高性能二次表面处理工艺,核心是通过 “旧膜退除→精细前处理→低温高流二次成膜”,生成更厚(20-80μm)、更致密的高硬度(HV600-1200)氧化膜,解决首次硬质氧化的耐磨 / 耐蚀不足、膜层缺陷问题,适配严苛工况下的耐磨零件需求。
核心工艺逻辑
旧膜精准退除:温和去除首次硬质氧化的旧膜,避免腐蚀基体,同时清理表面杂质,为二次成膜铺垫平整基底。
精细化前处理:针对硬质氧化的高要求,强化除油、活化步骤,压铸铝额外加强去硅灰,确保表面无残留、无硅化物干扰。
低温高流二次成膜:在更低温度、更高电流密度下,优化电解液配方,促进氧化膜致密生长,提升硬度与厚度均匀性。
强化后处理:采用高温或特殊封孔工艺,封闭膜层微孔,进一步提升耐蚀性与耐磨性,延长使用寿命。
关键工艺控制要点
1. 旧膜退除与前处理(保障二次成膜质量)
旧膜退除:
配方:磷酸 80-100g/L + 铬酐 5-10g/L + 缓蚀剂 2-3g/L(压铸铝需加氟化氢铵 5g/L)。
参数:温度 50-60℃,时间 5-10 分钟,直至旧膜完全剥离,表面恢复金属本色。
注意:避免退膜过度导致基体腐蚀,退膜后用纯水三级漂洗。
精细前处理:
除油:超声波 + 碱性除油剂(70-80g/L,55℃,10 分钟),彻底清除油污与退膜剂残留。
活化:10% 硝酸常温浸泡 3 分钟,活化金属表面,提升膜层附着力。
去硅灰(压铸铝专属):氟化氢铵 35-40g/L,常温浸泡 6-8 分钟,去除硅化物挂灰。
2. 二次硬质氧化成膜(核心步骤)
电解液体系(主流优化配方):
基础体系:硫酸 150-180g/L + 草酸 20-30g/L(提升膜层致密性)。
压铸铝专用:添加甘油 5-10g/L(抑制硅干扰)+ 柠檬酸 3-5g/L(均匀成膜)。
关键参数:
温度:严格控制在 - 5℃-5℃(需大功率制冷设备),避免温度过高导致膜层发软。
电流密度:初始 1.5-2A/dm²,阶梯式升至 3-5A/dm²,保持电流稳定。
时间:按膜厚需求调整,20-40μm 需 40-60 分钟,40-80μm 需 60-120 分钟。
电压:随膜厚增长升至 70-100V,避免电压骤升导致膜层击穿。
3. 后处理强化(锁定高性能)
封孔:
蒸汽封孔:100-110℃高压蒸汽,封孔 20-30 分钟,适配高温工况,无化学残留。
中温镍盐封孔:55-60℃,镍盐 8-10g/L,封孔 25-30 分钟,耐蚀性最优。
无镍封孔:环保体系(锆盐 3-5g/L),50-55℃,封孔 30 分钟,适配出口产品。
脱水烘干:100-120℃烘干 15-20 分钟,彻底去除膜层水分,避免泛白或性能衰减。